重生08：从山寨机开始崛起 第358节

　　然后另外一个关键参数就是套刻精度，套刻精度有很多个说法，一般在量产工艺里使用的是MMO，也就是不同设备之间的套刻精度。

　　这个数据直接关系到大规模量产情况下的最小制程，良率等一系列关系性能，通常来说，只有满足五点五纳米的套刻精度，才能够实现28纳米工艺的大规模量产。

　　不然的话，勉强使用良率会非常低，成本高昂，不具备商业使用价值。

　　至于更进一步的18纳米以及十四纳米，甚至十纳米工艺这些，这就需要使用双重曝光技术，这对套刻精度要求更高，要求能够达到三点五纳米的套刻精度……

　　这也是为什么说十八纳米工艺节点有些尴尬的原因，因为用来生产十八纳米的光刻机，它也能用来生产十四纳米。

　　同样的设备，我为啥不生产十四纳米工艺的芯片？

　　但是再往下的七纳米，这就需要使用四重曝光，这对套刻精度提出了更进一步的要求，常规来说需要达到二点五纳米的套刻精度，如此才能够让良率稳定在一定的水准。

　　如果套刻精度不足的光刻机，强行采用四重曝光生产七纳米芯片，良率会非常低，成本非常高昂，除非特殊情况，不然没人这么干的。

　　而海湾科技目前的目标，就是进一步缩小套刻精度，争取做到二点五纳米的水准，然后满足七纳米的生产需求。

　　不过这也挺难的，这可是实打实的物理极限的提升，每一纳米的套刻精度提升都是无比艰难的。

　　当然，二点五纳米套刻精度的光刻机，现在海湾科技还搞不出来，甚至三点五纳米套刻精度的光刻机，现在也磕磕绊绊，还得继续琢磨，估计下半年才能小批量供货测试，大规模量产使用，那都得明年去了。

　　但是，现在的五点五纳米套刻精度的HDUV-400光刻机，却是已经成熟可用了……智云微电子那边都用这款光刻机，大规模投产二十八纳米工艺的芯片了。

　　如果是用来生产三十二纳米工艺，四十纳米工艺或四十五纳米工艺这些更成熟的工艺，那就更不用说了，小菜一碟！

　　甚至都可以来上一句性能过剩。

　　智云微电子那边，开始使用HDUV-400光刻机进行投产，这个消息，让业内不少关注国产光刻机的其他芯片厂商看了大为动心。

　　他们也想要这种便宜好货，来大幅度降低先进工艺的资金投入啊。

　　海湾科技的光刻机，虽然整体性能差了点，比不过ASML的光刻机，但是人家卖的便宜啊，不仅仅售价便宜，后续的维护费用也便宜。

　　这就让很多资金不是很充裕的晶圆厂很动心！

　　反正他们也没什么野心搞更先进的双重曝光，玩什么十八纳米，十四纳米工艺，他们就想玩个四十五纳米工艺，撑死了再搞个二十八纳米工艺。

　　这个海湾科技的HDUV-400光刻机，已经很充分了。

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　　不久后，中芯方面也随后正式宣布，他们采购的首台量产型HDUV400光刻机已经进入产线，并投入四十纳米工艺储存芯片的生产。

　　同时他们还准备利用这一款光刻机，来筹建第二条28纳米工艺产线。

　　国内的其他芯片制造厂商看了，就更加坐不住了……国内半导体领域里的老大和老二都已经开始用了，我们也要用啊！

　　于是纷纷找到了海湾科技，希望他们加速供货。

　　对此，海湾科技方面是欢喜无比的同时也苦不堪言……这HDUV-400光刻机的订单太多，而他们的产能也是有限的，短时间里根本无法提供这么多的光刻机。

　　但是有太多人找上门来，还各种找关系说人情，把海湾科技方面的人给弄的都怕了。

　　光刻机这东西，又不是大白菜，海湾科技也只是个负责系统整合的组装厂商而已，很多时候都不是他们想要提升产能就能提升产能的，得后头一大串的供应商都提升产能才行。

　　比如核心的镜片。

　　别看只是镜片，但是它却是一台光刻机里的核心零部件，而这种超高精度的镜片的加工极其困难，复杂，南方光学里加工这种超高精度的镜片的产能是极为有限的。

　　这些镜片，都是由业内最顶级的工程师，操作离子束抛光机等顶级先进设备，然后一点一点加工出来的。

　　整个生产过程的工艺极其复杂。

　　这产能自然也是有限的，这第一年里能够给海湾科技提供个四十多套的镜片，那就已经是加班加点的成果了，再多……那是不可能的。

　　南方光学也需要时间来采购，安装，调试更多的先进设备，培养更多的顶级工程师。

　　这第一年能够弄你手搓出来四十多套的镜片，那已经是拼了老命的结果。

　　拿着这些镜片，海湾科技撑死了也就只能造出来四十多台HDUV-400光刻机，而实际上还不行，还得留一批镜片用于试产套刻精度更高，更先进的HDUV-500光刻机，也就是套刻精度达到三点五纳米，可以进行二次曝光，用于生产十八纳米、十四纳米芯片的光刻机。

　　最后今年能够提供的HDUV-400光刻机，撑死了也就四十套。

　　这些光刻机，大客户智云微电子就要拿走一大半，然后第二大客户中芯要拿走一小半。

　　剩下的个位数产能给其他厂商分，各厂商也分不到多少的。

　　为了解决先进光刻机产能问题，徐申学在五月份初的时候前往海湾科技，并在这里召见了仙女山控股体系下的各光刻机子系统供应商的子公司们。

　　数十家子公司的负责人齐坐一堂，然后徐申学坐在上头坐镇，署理整个生产环节所遇到的问题，问题该如何解决。

　　期间，南方光学方面的镜片产能，是最大的短板，更是需要重点解决。

　　整个HDUV-400光刻机项目里，其他子系统都还好，部分子系统的供应商负责人表示，哪怕今年他们都能做一两百套子系统出来。

　　但是南方光学这边，镜片就只有四十多套，针对这个问题，徐申学和南方光学的负责人说过了后，后头更是到隔壁小会议室里和南方光学带过来的核心技术团队进行了一番沟通。

　　搜集了一些他们所反馈的问题，遇到的一些难题。

　　最后发现，真正的难题不在于资金，也不在于工程师的培养进度，更主要的还是部分核心设备的供应不足，如离子束抛光机这一关键设备，供应商提供的数量极少，根本不够用。

　　对此，徐申学表示问题不大，虽然这个关键设备可不是仙女山控股体系下的，甚至都不是常规企业所提供的，而是某个科研机构提供的。

　　但是徐申学的人脉关系也不是南方光学这边所能相提并论的。

　　很快，他就打了几个电话出去，和对方研究机构的负责人聊了聊，最后对方表示，会让一群技术人员加班加点，争取再多做几套出来。

　　当然，徐申学也是投桃报李，立即表示智云集团这边还有个材料研究项目，准备找研发机构进行合作，预定研发经费十个亿。

　　这不刚好，也不找其他研究所了，就找你们合作了。

　　研究所的负责人当即表示：我们正准备来个大干一百天，多弄几套离子束抛光机出来，为国产光刻机的大规模量产添砖加瓦。

　　数天后，智云这边，则是派出了一个合作团队前往该研究所，准备一起合作搞很玄学的材料研发……

　　徐申学手底下各种公司的材料研发项目多了去，而且材料研发比较玄学，大多情况下，运气比实力更重要。

　　所以和谁合作其实关系不是很大，徐申学搞这些对外合作材料研发的时候，都是看谁顺眼就把经费投给谁。

　　反正大部分都是打水漂的，最后除了点可有可无的论文外，实际成果毛都没有。

　　这些年来，徐申学早已经习惯了，所以现在他对材料研发这种事讲究的就是一个随缘……淡定的很。

　　砸出成果来了，那叫意外之喜。

　　没有砸出成果来，那才叫常态！

第311章 未来的万亿美元市场

　　徐申学调控整个仙女山控股下属的半导体设备，材料研发体系，甚至动用自己的人脉关系，影响力以及其他资源，进而加速了DUV浸润式光刻机的大规模量产。

　　这让海湾科技的HDUV-400型光刻机的量产速度出现了提升。

　　“今年，我们将会确保为国内各芯片厂商提供至少五十台HDUV-400光刻机量产型，用于各厂商的芯片生产，同时将会再生产至少五台HDUV-500型光刻机的试产型号，用于智云微电子，中芯两家厂商的的测试，研发工作！”

　　“为了确保能够做到这一点，我们还将会进一步加大人员的招聘，培养力度！”

　　海湾科技的CEO王道林，为徐申学如此描绘今年光刻机领域里的生产以及研发情况。

　　“目前我们已经初步解决了500型光刻机的套刻精度问题，在子系统的测试中已经能够做到稳定三点五纳米的精度，可以支持十四纳米工艺的量产。”

　　“接下来我们将会试制一台样机进行整机测试，并在第三季度开始交付首台测试样机给智云微电子方面！”

　　“而更进一步的光刻机研发中，我们正在搞套刻精度两点五纳米，用以未来支持七纳米工艺的600型号，目前虽然还遇到了一些技术难题，不过我们正在加大力度进行转向的技术攻关，我们争取在未来的两年里解决这个技术难题。”

　　“只要解决这个两点五纳米的套刻的技术难题，那么我们的光刻机就能够进行高效的，高良率四重曝光，而高良率四重曝光技术则是可以用于等效七纳米工艺的大规模量产！”

　　“尽管我们和ASML还存在一定的技术差距，但是这种技术差距并不是不可跨越的，毕竟我们已经解决了最难的镜片以及光源部分，还解决了双工作台问题，如今我们只需要稳扎稳打，持续的进行技术优化，逐步提升，就能够把这个套刻精度逐步提升起来！”

　　徐申学道：“如此看来，我们的DUV浸润式光刻机应该是稳了，未来七纳米工艺也问题不大了。”

　　“那么七纳米工艺以下呢？我们正在搞的600型光刻机能否进一步突破极限，做到等效五纳米的芯片？”

　　王道林此时道：“七纳米工艺问题不大，而五纳米工艺的话虽然理论上可以通过多重曝光，比如八重曝光，使用现有DUV浸润式光刻机的134纳米波长的光源，也能用来制造等效5纳米工艺的芯片。”

　　“但是这需要光刻机提供更高的套刻精度，这样才能够在多重曝光的时候，每一次都对准芯片进行曝光。”

　　“如果套刻精度不够，那么在进行多重曝光的时候就无法对准，芯片良率就会低到一个非常夸张的程度。”

　　“按照我们的计算，600型光刻机的二点五纳米的套刻精度用来维持七纳米工艺量产是已经算是比较极限的了，到时候哪怕其他各方面的条件都比较理想，估计也就只能做到百分之八十左右的良率，而这还是理论数据，如果受到其他各方面的影响，实际生产的时候可能还达不到这个良率。”

　　“如果要使用600型光刻机，强行生产等效五纳米工艺的芯片，也不是不可以，在理论上是存在这种可能性的，但是我们的这款600型光刻机在套刻精度上还不够，强行生产的话，那么良率将会非常低，完全不具备商业价值！”

　　徐申学听罢后，却是没有露出什么沮丧之类的表情，而是继续翻看着技术，然后道：“七纳米工艺能够解决的话，就不错了。”

　　“至于五纳米工艺的话，良率低，商用价值低先不谈，关键的是要解决有无问题，我们必须确保哪怕没有EUV光刻机，也要能够获得一定的五纳米工艺产能，哪怕它成本极其高昂！”

　　徐申学对这个等效五纳米工艺，还是比较看重的……在没有EUV光刻机的当下里，想要进一步突破工艺制程，那么就需要深挖DUV浸润式光刻机的极限了。

　　不仅仅是自己这边的问题，对面的英特尔和台积电，四星等也存在同样的问题……因为他们也没EUV光刻机可用！

　　原时空里他们可以直接用EUV光刻机玩七纳米甚至五纳米，但是这个时空里……徐申学微笑着对他们说：我没得用，你们也不能用！

　　你们不能抢跑，这不是体面人该做的事！

　　你们要是不体面，我就帮你们体面！

　　至于说什么规矩不规矩，事关几千亿美金的电子消费以及半导体市场，背后是一整个电子消费以及半导体产业链，影响数以千万计的就业岗位……

　　规矩？

　　老子的火箭弹就是规矩！

　　现在老老实实的待在原地和我一起玩DUV浸润式光刻机……然后我们各自琢磨如何用DUV浸润式光刻机生产七纳米甚至五纳米工艺的芯片！

　　这也挺好玩的不是！